Компьютерная графика
люминофорного покрытия в ЭЛТ с обычной теневой маской
Рисунок 114. Шаг люминофорного покрытия в ЭЛТ с обычной теневой маской
Теневые маски рассмотренного выше вида применяют с момента изобретения цветных мониторов. Их обычно изготавливают из магнитного сплава железа с никелем (инвара). Он имеет низкий коэффициент теплового расширения. А это очень важно. Дело в том, что значительная часть (70—80%) электронов наталкивается на маску и нагревает ее. Это приводит к изменению размеров и смещению отверстий и, как следствие, — к ухудшению качества изображения.
Другой тип теневой маски называется апертурной решеткой (aperture grille). Она применяется в ЭЛТ с пленарным (в одной плоскости) расположением электронных пушек. Такое расположение облегчает задачу поворота электронных лучей на большой угол, а также делает их фокусировку независимой от магнитного поля земли. Другими словами, лучше решается задача сведения лучей. ЭЛТ с планарным расположением пушек и апертурной решеткой называют еще «трубками с самосведением лучей».
